Anycubic Wash&Cure 3.0 - компактная настольная станция постобработки формата «2-в-1», разработанная для автоматической очистки и финального УФ-отверждения моделей, напечатанных на фотополимерных 3D-принтерах с диагональю матрицы до 7,3 дюйма. Станция оснащена регулируемой по высоте 3-литровой корзиной для более экономичного расхода спирта и поворотным на 360 градусов зеркальным столом для равномерной полимеризации. Дополнительная УФ-лампа на гибкой ножке обеспечивает дополнительную локальную засветку сложных внутренних полостей и мелких элементов моделей.
Большой объем
Станция Anycubic Wash & Cure 3 оснащена корзиной для очистки объемом три литра, а общая вместимость герметичного контейнера достигает четырех литров. Такое масштабное пространство делает устройство идеальным для работы с фотополимерными LCD-принтерами с диагональю матрицы до 7,3 дюйма. Габариты рабочей области позволяют обрабатывать более крупные детали за один цикл, а двухъярусная конструкция корзины дает возможность регулировать высоту подвеса платформы, что существенно снижает расход изопропилового спирта.
Рабочая зона полимеризации Anycubic Wash & Cure 3 составляет 160×180 мм при общем объеме камеры в 3,18 литра, что позволяет размещать на поворотном подиуме крупные, высокие и объемные изделия. Такое решение значительно сокращает общее время постобработки при серийном производстве, так как теперь можно эффективно засвечивать массивные объекты или целые группы мелких деталей за один рабочий цикл без потери качества полимеризации.
Корзина из полипропилена
Станция оснащена двухъярусной корзиной из химически стойкого полипропилена (PP), которая позволяет очищать модели прямо на печатной платформе 3D-принтера. За счет регулируемой высоты подвеса на уровнях 100 мм и 165 мм система идеально адаптируется под рабочие столы принтеров с диагональю от 5,9 до 7,3 дюйма. Регулировка положения платформы по высоте исключает необходимость полностью заполнять бак, что позволяет увеличить эффективность использования изопропилового спирта при каждом цикле промывки.
Лампа дополнительной засветки
УФ-лампа на гибком основании позволяет увеличить интенсивность излучения на 30 000 мкВт/см² в ближней зоне воздействия от 1 до 3 см, улучшая качество полимеризации. Направленный точечный свет гарантирует глубокое и равномерное отверждение сложных геометрических участков, которые обычно остаются в тени, включая верхние грани моделей, глубокие внутренние пазы и мелкие складки на одежде миниатюрных фигурок.
Простота эксплуатации
Станция поддерживает два основных режима работы — мойку и полимеризацию, которые переключаются всего одним нажатием кнопки. Дополнительный режим усиленной засветки с помощью УФ-лампы на гибком основании активируется и отключается отдельной кнопкой. Настройка времени для всех процессов выполняется с помощью регулятора, позволяющего выставлять таймер в диапазоне от 1 до 30 минут в зависимости от сложности и размеров модели.
RUB
USD
EUR
